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ULVAC 刻蚀机 ICP：高密度等离子蚀刻装置NE-550
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ULVAC 量产用刻蚀设备NE-5700/NE-7800
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ULVAC 高密度等离子刻蚀装置ULHITETM NE-7800H
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研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570
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ULVAC 干法刻蚀设备 APIOS NE-950EX
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对应光学器件、MEMS制造的干法刻蚀装置NLD-5700
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批处理式自然氧化膜去除设备 RISE-300
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centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150
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Centrotherm 小批晕生产用垂直炉管CLV200,科研专属
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Centrotherm 高温退火炉系统-Activator 150
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Centrotherm 高温氧化系统-Oxidator 150
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Centrotherm 快速热工艺设备-RTP 150
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Centrotherm 卧式热反应系统-E1200
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E1550-初步小规模生产的卧式炉
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E2000-大批量生产的卧式炉
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Bruker 台阶仪 DektakXT
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Hysitron TS 77 Select 纳米压痕仪
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Bruker三维光学表面轮廓仪-ContourGT-X全自动设备
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机械与性能摩擦测试-UMT
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BRUKER三白光干涉仪-Contour-GT系列
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EVG®850 SOI的自动化生产键合系统
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GEMINI®FB 自动化生产晶圆键合系统
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BONDSCALE™ 自动化生产熔合系统
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EVG UV-NIL /SmartNIL®紫外线纳米压印光刻
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EVG®610 UV Nanoimprint Lithography System 紫外线纳米压印
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纳米压印光刻机 EVG 620 NT 科研使用
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EVG®6200NT SmartNIL UV纳米压印光刻系统
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纳米压印光刻 设备 EVG®720 量产使用
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EVG®7200 自动化SmartNIL®UV纳米压印光刻系统
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EVG®7200LA 大面积SmartNIL®UV纳米压印光刻系统
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